ASML锁定三大晶圆厂，华为加速突围光刻依赖

ASML巩固高端光刻主导地位

ASML已成功促使台积电（TSMC）、三星（Samsung）和英特尔（Intel）转向使用更大尺寸的光罩（photomasks）。这一升级将显著提升其最新型极紫外（EUV）光刻机的生产效率，预计吞吐量可提高40%。

华为牵头国产替代攻坚

面对ASML在先进制程光刻设备上的技术垄断，华为正统筹中国本土反制策略。该计划依托设备制造商裕良升（Yuliangsheng）以及华为自身供应链体系，旨在突破荷兰光刻技术封锁，降低对ASML设备的依赖。

全球先进制程竞争加剧

此次技术路线协同与国产替代并行，凸显全球半导体制造核心环节的技术控制权争夺已进入关键阶段。